特許

J-GLOBAL ID：200903026733933296

プラズマ処理装置およびその管理方法

発明者： 山本 敦史
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 森本 義弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-056565
公開番号（公開出願番号）：特開2001-244206
出願日： 2000年03月02日
公開日（公表日）： 2001年09月07日
要約：

【要約】【課題】 設備の稼働率を下げることなく電極間距離を測定し一定に維持することができ、製品の品質や生産性を向上できるプラズマ処理装置およびその管理方法を提供する。【解決手段】 真空チャンバー1の内部に平板状の上部電極2,下部電極3を互いに平行に配置し、上部電極2,下部電極3間に高周波電源4により高周波電力を印加するプラズマ処理装置において、前記高周波電力の電圧と電流との位相差を検出するサンプリング器17を設け、検出した位相差に基づいて電極間隔を調整するように構成する。検知される位相差は電極間の容量に依存し、電極間の容量は電極間距離に依存するものであるから、検知した位相差を用いて電気的に電極間距離を検知することができる。

請求項（抜粋）：

処理室の内部に相対向する電極を配置し、前記電極間に高周波電力を印加するプラズマ処理装置において、前記高周波電力の電圧と電流との位相差を検出する検出手段を備え、検出した位相差に基づいて電極間隔を調整するように構成したことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (7件)：

H01L 21/205 ,  B01J 19/08 ,  C23C 16/509 ,  C23C 16/52 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/3065 ,  H05H 1/46

FI (8件)：

H01L 21/205 ,  B01J 19/08 H ,  C23C 16/509 ,  C23C 16/52 ,  C23F 4/00 C ,  H05H 1/46 M ,  H01L 21/302 C ,  H01L 21/302 A

Fターム (39件)：

4G075AA24 ,  4G075AA61 ,  4G075CA25 ,  4G075CA47 ,  4G075DA02 ,  4G075EB42 ,  4G075EC21 ,  4G075ED09 ,  4K030FA03 ,  4K030HA12 ,  4K030JA03 ,  4K030JA19 ,  4K030KA14 ,  4K030KA30 ,  4K030KA39 ,  4K030KA41 ,  4K057DA16 ,  4K057DA19 ,  4K057DD03 ,  4K057DD08 ,  4K057DG16 ,  4K057DM02 ,  4K057DM04 ,  4K057DM06 ,  4K057DM13 ,  4K057DM16 ,  4K057DN01 ,  5F004AA16 ,  5F004BA07 ,  5F004CA05 ,  5F004CA08 ,  5F004CB05 ,  5F045AA08 ,  5F045BB16 ,  5F045EH07 ,  5F045EH13 ,  5F045EH19 ,  5F045GB04 ,  5F045GB15