識別マークの読取装置及び識別マークの読取方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：志賀正武 , 渡邊隆
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-168303
公開番号（公開出願番号）：特開2009-010054
出願日： 2007年06月26日
公開日（公表日）： 2009年01月15日
要約：

【課題】識別マークが形成されたウェハの主面側を樹脂で封止した場合においても識別マークを読み取り可能とする。【解決手段】ウェハ1の主面1cに形成されかつ樹脂層1hにより主面1cと共に封止された凹凸状の識別マーク20を読み取るための装置であって、ウェハ1を支持するステージ2と、ステージ2の凹状部2hを通してウェハ1の裏面1b側から主面1cに向けて赤外光線を照射する照明ユニット13と、ウェハ1を透過して主面1cと樹脂層1hとの接合界面において反射した赤外光線の反射光を受光して接合界面を撮像する撮像ユニット16とを備え、照明ユニット13の先端に、識別マーク20の形成位置を除く主面1c領域からの反射光の受光を減少させる偏光板30を設けた。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

ウェハの主面に形成されかつ樹脂層によって前記主面と共に封止された凹凸状の識別マークを読み取るための装置であって、前記ウェハを支持するステージと、該ステージにより支持されたウェハの裏面側から前記主面に向けて赤外光線を照射する照明ユニットと、前記ウェハを透過して前記主面と前記樹脂層との接合界面において反射した前記赤外光線の反射光を受光して前記接合界面を撮像する撮像ユニットとを備え、前記ステージは前記ウェハの裏面への前記赤外光線の照射及び該裏面からの反射光の通過を可能とするものであり、前記照明ユニットから前記ステージのウェハ支持部までの間、又は該ステージのウェハ支持部から前記撮像ユニットまでの間の少なくとも一方に、前記識別マークの形成位置を除く主面領域からの反射光の受光を減少させるように赤外光線の透過を制限する光透過制限手段を設けたことを特徴とする識別マークの読取装置。

IPC (1件)：

H01L 21/02

FI (1件)：

H01L21/02 A

引用特許：

出願人引用 (1件)

物流管理システム
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-310426 出願人：株式会社日立製作所

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