特許
J-GLOBAL ID:200903026737745524

非再生型イオン交換容器及び超純水製造装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 重野 剛
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-005413
公開番号(公開出願番号):特開2006-192354
出願日: 2005年01月12日
公開日(公表日): 2006年07月27日
要約:
【課題】被処理水にUVを照射して酸化した後、パラジウム触媒と接触させて、DOを極低濃度にまで除去した超純水を製造するに当たり、容器数、付帯機器、設置面積を低減し、維持管理の手間を軽減することができる非再生型イオン交換容器及び超純水製造装置を提供する。【解決手段】容器内に、アニオン交換樹脂層、又はアニオン交換樹脂とカチオン交換樹脂とが混合状態で存在する混合樹脂層を有し、該アニオン交換樹脂層又は混合樹脂層の上表面にパラジウム触媒層が積層されている非再生型イオン交換容器。被処理水が導入される紫外線照射酸化装置と、該紫外線照射酸化装置の流出水が通水される非再生型イオン交換容器とを有する超純水製造装置において、該非再生型イオン交換容器としてこのような非再生型イオン交換容器を有し、被処理水に紫外線を照射して酸化した後、パラジウム触媒と接触させることにより溶存酸素を除去すると共にアニオン交換樹脂又は混合樹脂と接触させてイオン性物質を除去した超純水を得る超純水製造装置。【選択図】図1
請求項(抜粋):
容器内に、アニオン交換樹脂層、又はアニオン交換樹脂とカチオン交換樹脂とが混合状態で存在する混合樹脂層を有し、該アニオン交換樹脂層又は混合樹脂層の上表面にパラジウム触媒層が積層されていることを特徴とする非再生型イオン交換容器。
IPC (4件):
C02F 1/42 ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/70 ,  C02F 1/72
FI (4件):
C02F1/42 A ,  C02F1/32 ,  C02F1/70 Z ,  C02F1/72 101
Fターム (22件):
4D025AA04 ,  4D025BA08 ,  4D025BA13 ,  4D025BA22 ,  4D025BA28 ,  4D025BB04 ,  4D025DA04 ,  4D025DA10 ,  4D037AA03 ,  4D037AB01 ,  4D037BA18 ,  4D037CA15 ,  4D050AA05 ,  4D050AB07 ,  4D050AB32 ,  4D050BA14 ,  4D050BB09 ,  4D050BC04 ,  4D050BC09 ,  4D050BD02 ,  4D050BD04 ,  4D050CA08
引用特許:
出願人引用 (1件)
  • 特許第2988290号公報
審査官引用 (6件)
  • 特開昭60-257840
  • 脱気装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平6-313206   出願人:栗田工業株式会社
  • 特開昭60-257840
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