特許

J-GLOBAL ID：200903026752162357

光学薄膜用のスパッター装置及び光学薄膜

発明者： 神谷 攻
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-144997
公開番号（公開出願番号）：特開2002-339060
出願日： 2001年05月15日
公開日（公表日）： 2002年11月27日
要約：

【要約】【課題】 ダイクロイックミラーや、反射防止膜のための、低コスト、高品質の光学薄膜用のスパッター成膜装置。【解決手段】 カルーセル型基板ホルダーをもち、上下に軸に平行磁場を有し、上下のターゲットを同時に磁場を反転する事により、2種類の薄膜交互層を効率よく成膜できるスパッター装置。

請求項（抜粋）：

円筒状の基板の取り付け冶具を有し、円筒の両端に、それぞれ対向する磁石を内蔵した、2個以上のターゲットを交換出来る構造を有し、対向ターゲットスパッターをなすスパッター装置。

IPC (4件)：

C23C 14/34 ,  G02B 1/11 ,  G02B 5/08 ,  G02B 5/28

FI (4件)：

C23C 14/34 C ,  G02B 5/08 C ,  G02B 5/28 ,  G02B 1/10 A

Fターム (22件)：

2H042DA02 ,  2H042DA08 ,  2H042DC02 ,  2H048GA04 ,  2H048GA13 ,  2H048GA33 ,  2H048GA60 ,  2H048GA62 ,  2K009AA09 ,  2K009CC03 ,  2K009DD04 ,  4K029AA09 ,  4K029BA43 ,  4K029BA46 ,  4K029BA48 ,  4K029BB02 ,  4K029BC07 ,  4K029BD09 ,  4K029CA06 ,  4K029DC03 ,  4K029DC05 ,  4K029DC40