特許
J-GLOBAL ID：200903026759151881
集積型ガルバノメータ走査デバイス
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉田 研二 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-190400
公開番号（公開出願番号）：特開平6-167669
出願日： 1993年07月30日
公開日（公表日）： 1994年06月14日
要約：
【要約】【目的】 高速動作可能な集積型ガルバノメータ走査デバイスを提供する。【構成】 シリコンウェハ12の前面から背面へ延びるよう、縦スロット14及び16を設ける。背面には、縦スロット14から16に亘る2本の溝を設ける。これら縦スロット14及び16並びに2本の溝によって区画される中央部24に、磁石を設け、その背面に、磁気回路を取り付ける。中央部24は反射面を有する。磁石及び磁気回路によって反射面が駆動される。反射面の偏向がウェハ12の応力ゲージにより検出され、光ビーム23の偏向が検出される。部品はウェハ12に集積され、ウェハ12に形成され又は搭載される。
請求項（抜粋）：
前面及び背面を有し、さらに前面から背面へ延びるよう第1及び第2の縦スロットが形成され、第1の縦スロットと第2の縦スロットの間には上側と下側にそれぞれ溝が形成され、これらの縦スロット及び溝により外側部と中央部とが区分され、比較的可とう性を有する可とう部材が溝を覆うよう配置されたプレーナ基板と、プレーナ基板の前面又は背面のうち一方の中央部に設けられた反射部材と、プレーナ基板の前面及び背面のうち反射部材が設けられた面でない面の中央部に取り付けられた第1の磁気部材と、を備え、第1の磁気部材が磁石及び磁気回路の一方であり、光ビームを制御可能に偏向することを特徴とする集積型ガルバノメータ走査デバイス。
IPC (2件)：
G02B 26/10 104
, G02B 26/08
