特許
J-GLOBAL ID：200903026759992304
流動層反応器及び流動層反応器の温度制御方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 暁司
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP1995000163
公開番号（公開出願番号）：WO1995-021692
出願日： 1995年02月07日
公開日（公表日）： 1995年08月17日
要約：
【要約】流動層反応器であって、流動層形成部に複数の除熱管及び少くとも1個の温度検出部が設置され、該除熱管は反応器外部の冷媒供給管と同抜出管に接続されており、且つ、少なくとも一つの除熱管は定常速度で冷媒が供給され、他の少なくとも一つの除熱管は可変速度で冷媒が供給される除熱管からなる構成を有することを特徴とする流動層反応器、及び該流動層反応器を用いて除熱を行なうことを特徴とする流動層反応器の温度制御方法。
請求項（抜粋）：
流動層反応器であって、流動層形成部に複数の除熱管及び少くとも1個の温度検出部が設置され、該除熱管は反応器外部の冷媒供給管と同抜出管に接続されており、且つ、少なくとも一つの除熱管は定常速度で冷媒が供給され、他の少なくとも一つの除熱管は可変速度で冷媒が供給される除熱管からなる構成を有することを特徴とする流動層反応器。
IPC (1件)：
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