特許

J-GLOBAL ID：200903026762021000

液晶表示素子の端子部に導体を形成する方法

発明者： 小田 紘一 ,  和田 英作 ,  寺田 慎吾
出願人/特許権者： オプトレックス株式会社
代理人 (1件)： 泉名 謙治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-190092
公開番号（公開出願番号）：特開平6-011723
出願日： 1992年06月24日
公開日（公表日）： 1994年01月21日
要約：

【要約】【目的】安定な外部回路との接続が可能な液晶表示素子を得る。【構成】ガラス基板1上のITO膜2上に無電解めっきでNi-Pのめっき層3及びNi-Bのめっき層4を形成する。液晶表示素子を組み立てた後、20〜100nm厚の置換Auめっき層7、100〜300nm厚のNi-Pのめっき層11、10〜50nm厚の置換Auめっき層12を形成する。

請求項（抜粋）：

電極付基板の電極部をパターニングして形成した電極付基板の端子部に無電解めっき法でNi系のめっき層を形成し、この電極付基板を少なくとも一方の基板とした一対の電極付基板間に液晶層を挟持するようにしてセルを形成し、その後、Ni系のめっき層上に置換Auめっき層を形成し、さらにその上に、Ni系めっき層及びAuのめっき層を形成することを特徴とする液晶表示素子の端子部に導体を形成する方法。