特許
J-GLOBAL ID:200903026764438161
脱臭装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
大島 陽一 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-331127
公開番号(公開出願番号):特開平8-155254
出願日: 1994年12月08日
公開日(公表日): 1996年06月18日
要約:
【要約】【目的】 接触層の層厚を一定に保持し得るように構成された脱臭装置を提供することにある。【構成】 容器の内部に不規則な形状をなす合成樹脂製の接触材を多数充填してできた接触層において、上方から散布される薬液と下方から上昇する被処理気体とを向流接触させて、被処理気体中の臭気成分を吸収・除去する脱臭装置であって、上下方向隔壁にて複数の小室が形成された保持体を容器の内部に配置し、小室に所定の余裕を持って接触材を充填して接触層を形成するものとする。特に、保持体が、ハニカム状多孔体からなるものとする。【効果】 接触層の層厚を全面に渡って略一様に保持し、接触効率の低下を防止し得る。しかも、保持体がハニカム状多孔体であると、隔壁による接触材充填量の縮小を極力抑え得るため、脱臭装置の処理能力を低下させない。
請求項(抜粋):
容器の内部に不規則な形状をなす合成樹脂製の接触材を多数充填してできた接触層において、上方から散布される薬液と下方から上昇する被処理気体とを向流接触させて、前記被処理気体中の臭気成分を吸収・除去する脱臭装置であって、上下方向隔壁にて複数の小室が形成された保持体を前記容器の内部に配置し、前記小室に所定の余裕を持って前記接触材を充填して前記接触層を形成したことを特徴とする脱臭装置。
IPC (3件):
B01D 53/38
, B01D 53/77
, B01D 53/34 ZAB
FI (2件):
B01D 53/34 116 C
, B01D 53/34 ZAB
引用特許:
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