サブミクロンライン幅測定プロセス制御方法及び製作ライン幅を監視する試験装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：浅村皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-214554
公開番号（公開出願番号）：特開平6-174427
出願日： 1993年08月30日
公開日（公表日）： 1994年06月24日
要約：

【要約】【目的】回折を発生する特性のライン及びスペースを有する表面上の未知のライン幅を判断する方法、及びこのようなラインを作成する際にそのライン幅を監視するための試験装置を提供する。【構成】前記表面上に、同一の未知のライン幅、かつ異なる既知のピッチ幅を有する一組の少なくとも2本の試験格子を作成し、入射光により前記各格子を照射し、前記各格子からの回折図形の1次強度値を検出し、対応する前記格子のピッチ幅に対してプロットされた前記最大強度値をそれぞれ表わす曲線の極値を計算し、前記極値におけるピッチ幅を判断し、前記未知のライン幅を判断するために2により前記ピッチ幅を割算して、前記未知のライン幅を推定するようにしたものである。

請求項（抜粋）：

異なる透過率若しくは反射率、又は他の回折を発生する特性のライン及びスペースを有する表面上の未知のライン幅を判断する方法において、前記表面上に一組の少なくとも2つの試験格子を作成する工程であって、前記各格子が未知の同一ライン幅、かつ異なる既知のピッチ幅を有する工程と、入射光により前記各格子を照射する工程と、前記各格子から回折図形の一次強度値を検出する工程と、対応する前記格子のピッチ幅に対してプロットされた前記最大強度値をそれぞれ表わす曲線の極値を計算する工程と、前記極値におけるピッチ幅を判断する工程と、前記未知のライン幅を判断するために2により前記ピッチ幅を割算する工程とを含むことを特徴とする未知のライン幅を判断する方法。

引用特許：

出願人引用 (2件)

特開昭63-308507
特開昭54-092286

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