特許
J-GLOBAL ID：200903026785318042
微小構造体の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
平田 忠雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-348316
公開番号（公開出願番号）：特開平11-170376
出願日： 1997年12月17日
公開日（公表日）： 1999年06月29日
要約：
【要約】【課題】 積層方向の解像度が高く、歩留りの高い微小構造体の製造方法を提供する。【解決手段】 基板31上に少なくとも離型層33を形成したときの基板31の反りの方向および反りの量を求め、反りの方向および反りの量に基づいて、基板31に貼着したときに基板31の反りを緩和する反り制御層32を準備する。基板31に反り制御層32を貼着し、基板31上に離型層32を介して複数の薄膜34を形成する。基板31上の離型層33から複数の薄膜34を剥離し、対向するステージ上に順次接合することにより、複数の薄膜34を積層してなる微小構造体を製造する。
請求項（抜粋）：
基板上に所定の2次元パターンを有する複数の薄膜を形成し、前記基板から前記複数の薄膜を剥離し、この剥離した前記複数の薄膜を対向するステージ上に順次接合することにより、前記複数の薄膜を積層してなる微小構造体を製造する方法において、前記基板の反りを緩和する反り制御層を設ける工程を含むことを特徴とする微小構造体の製造方法。
IPC (2件)：
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