特許

J-GLOBAL ID：200903026786640339

有機ストリツピング組成物

発明者： イアル イー.ワード ,  フランシス ダブリユー.ミケロツチ
出願人/特許権者： アクト,インク.
代理人 (1件)： 広江 武典
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-010812
公開番号（公開出願番号）：特開平5-045894
出願日： 1992年01月24日
公開日（公表日）： 1993年02月26日
要約：

【要約】【目的】 無機基材からフォトレジスト等のポリマー系有機物質を除去するストリッピング組成物であって、無機基材の表面上の金属回路部材の腐食及び劣化を生じることもなく、ポリマー系有機物質をきれいに、かつ効果的に除去する改良有機ストリッピング組成物を提供することである。【構成】 有機極性溶媒と、金属と共に配位複合体を形成する抑制剤を含有する塩基性アミンとを含むことを特徴とするストリッピング組成物。

請求項（抜粋）：

フォトレジスト用の有機極性溶媒及び塩基性アミンを含むストリッピング組成物(stripping composition)において、当該組成物が重量比約0.5から20%の抑制剤(inhibitor)を含有していることを特徴とする改良ストリッピング組成物であり、当該抑制剤は以下記載の構造を有するグループから選択されており、当該構造とは、【化1】であり、ここにおいて、XはC、O、N、あるいはSであり、YはC、O、N、あるいはSであり、Rは-OH、-NR′′R′′、-SR′′、-NO、-NO2、あるいはzは0または1であり、R′は-OH、-NR′′R′′、-SR′′、-NO、NO2、あるいはであり、A及びBは各々-OH;COOR′′;-SO2NH2あるいは-NH2であり、GはH、低級アルキル、あるいはハロゲン(halo)であり、R′′はHあるいは低級アルキルであり、R′′′は低級アルキル及び低級アルコキシであることを特徴とする改良ストリッピング組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/42 ,  C09D 9/00 PSS ,  H01L 21/027 ,  C09K 15/04

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭63-231343
  
• 特開昭62-035357