プラズマ処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：長尾達也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-231016
公開番号（公開出願番号）：特開2003-045810
出願日： 2001年07月31日
公開日（公表日）： 2003年02月14日
要約：

【要約】【課題】導体からなる多数のスロット孔を有するスロット体と、このスロット体のマイクロ波放射面と反対側に設けられている誘電体との密着性を良くして、マイクロ波の放射効率と均一性の向上を図ることができ、長時間のプラズマ放電が可能で、大面積の被処理基板に対応することができるプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】スロットアンテナによりマイクロ波プラズマを生起させるプラズマ処理装置において、前記スロットアンテナは、ブロック状導体にマイクロ波放射用のスロットを多数設けたスロット体と、該スロット体のマイクロ波放射面とは反対側の面に配された誘電体を有し、該スロット体と該誘電体とをメタライズ接合により一体構造に構成する。

請求項（抜粋）：

処理ガスを導入しながら所定の圧力状態が維持可能な真空処理室と、該真空処理室内にマイクロ波を放射するスロットアンテナを具備し、前記スロットアンテナによりマイクロ波プラズマを生起させるプラズマ処理装置において、前記スロットアンテナは、ブロック状導体にマイクロ波放射用のスロットを多数設けたスロット体と、該スロット体のマイクロ波放射面とは反対側の面に配された誘電体を有し、該スロット体と該誘電体とをメタライズ接合により一体構造としたことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (7件)：

H01L 21/205 , B01J 19/08 , C23C 16/511 , H01Q 1/38 , H01Q 1/42 , H01Q 13/22 , H05H 1/46

FI (7件)：

H01L 21/205 , B01J 19/08 H , C23C 16/511 , H01Q 1/38 , H01Q 1/42 , H01Q 13/22 , H05H 1/46 B

Fターム (48件)：

4G075AA24 , 4G075BC04 , 4G075CA26 , 4G075CA47 , 4G075DA02 , 4G075DA18 , 4G075EB01 , 4G075EB46 , 4G075FB04 , 4G075FC15 , 4K030AA06 , 4K030AA17 , 4K030BA29 , 4K030CA04 , 4K030FA01 , 4K030JA19 , 4K030KA30 , 4K030KA45 , 4K030LA15 , 5F045AA09 , 5F045AB03 , 5F045AB04 , 5F045AB06 , 5F045AC01 , 5F045AC02 , 5F045AC03 , 5F045AC07 , 5F045AC16 , 5F045AC17 , 5F045AE19 , 5F045BB02 , 5F045EH02 , 5F045EH03 , 5F045EH04 , 5F045EH08 , 5F045EH19 , 5J045AA05 , 5J045DA05 , 5J045EA07 , 5J045FA02 , 5J045HA06 , 5J045NA07 , 5J046AA02 , 5J046AA06 , 5J046AA10 , 5J046AB08 , 5J046PA07 , 5J046RA03

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