特許

J-GLOBAL ID：200903026801044268

線幅制御方法

発明者： 堀内 立美
出願人/特許権者： コニカ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-057323
公開番号（公開出願番号）：特開平8-254861
出願日： 1995年03月16日
公開日（公表日）： 1996年10月01日
要約：

【要約】【目的】 トナー線像の線幅を数μmから10μm程度で検出して再生するトナー線像を所定の線幅に制御する線幅制御方法を提供することにある。【構成】 光源の発光を制御するパルス幅信号を調整するパルス幅制御工程と、光源から光を照射することにより複数のライン潜像からなるパッチ潜像を形成するパッチ潜像形成工程と、パッチ潜像をトナー線像からなるパッチ像に顕像化する顕像工程と、パルス幅制御工程から顕像工程を繰り返して階調の異なる複数のパッチ像を形成する工程、前記パッチ像の光学濃度を測定する工程と、前述したトナー線像とパッチ像からインデックス信号を用いて反射濃度の傾における変曲点を検出する変曲点検出工程と、前記変曲点におけるデータから電子写真プロセスの条件を調整するプロセス条件調整工程とからなる。

請求項（抜粋）：

光源の発光を制御するパルス幅信号を調整するパルス幅制御工程と、前記光源から光を照射することにより複数のライン潜像からなるパッチ潜像を形成するパッチ潜像形成工程と、前記パッチ潜像をトナー線像からなるパッチ像に顕像化する顕像工程と、前記パルス幅制御工程から顕像工程を繰り返して階調の異なる複数のパッチ像を形成する工程、前記パッチ像の光学濃度を測定する工程と、前記トナー線像とパッチ像からインデックス信号を用いて反射濃度の傾における変曲点を検出する変曲点検出工程と、前記変曲点におけるデータから電子写真プロセスの条件を調整するプロセス条件調整工程とからなる線幅制御方法。

IPC (2件)：

G03G 15/00 303 ,  H04N 1/29

FI (2件)：

G03G 15/00 303 ,  H04N 1/29 D