特許

J-GLOBAL ID：200903026811203224

露光装置

発明者： 大沢 大 ,  吉井 実 ,  村上 栄一
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 伊東 哲也 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-095448
公開番号（公開出願番号）：特開2001-284223
出願日： 2000年03月30日
公開日（公表日）： 2001年10月12日
要約：

【要約】【課題】 フッ素(F2 )エキシマレーザ光を利用した露光装置において、容易に光軸合わせすることを目的とする。【解決手段】 フッ素エキシマレーザを光源とし、マスクのパターンを投影光学系を介して感光基板に照射する露光装置において、前記フッ素エキシマレーザ光の真空紫外域の波長を露光光とし、前記フッ素エキシマレーザ光が同時に発光する可視光または赤外光を用いた光軸合わせ手段を設ける。ここで、前記光軸合わせ手段に用いる可視光または赤外光は、照明系内に設けられたダイクロイックミラーで波面分割され、ガラス窓より照明系外へ導き、この可視光または赤外光を光電変換素子等のセンサによりビーム位置を検出し、その結果に基づき、照明系の光軸とレーザ光の中心が一致するようにダイクロイックミラー等の光学部材を実時間で制御する。

請求項（抜粋）：

光源からの光を利用して、マスクのパターンを投影光学系を介して感光基板に照射する露光装置において、該光源は、少なくとも2波長を同時に発光し、該光源からの光に含まれる所定の波長を露光光として利用し、該光源からの別の波長を光軸合わせに利用することを特徴とする露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 502 ,  G03F 7/20 521

FI (5件)：

G03F 7/20 502 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 516 A ,  H01L 21/30 502 G ,  H01L 21/30 515 D

Fターム (18件)：

2H097AA03 ,  2H097BA10 ,  2H097BB10 ,  2H097CA13 ,  2H097EA01 ,  2H097GB00 ,  2H097LA10 ,  5F046AA22 ,  5F046AA28 ,  5F046BA04 ,  5F046CA03 ,  5F046CB07 ,  5F046CB23 ,  5F046DA13 ,  5F046FA03 ,  5F046FB02 ,  5F046FB08 ,  5F046FB19