特許
J-GLOBAL ID：200903026813853293
電子線描画方法及び電子線描画装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 弘男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-220418
公開番号（公開出願番号）：特開平11-067628
出願日： 1997年08月15日
公開日（公表日）： 1999年03月09日
要約：
【要約】【課題】 電子線の描画スループットを大幅に削減する事が可能な電子線描画方法及び装置を提供することである。【解決手段】 電子線偏向領域10内の偏向位置や距離に依存した電子線偏向時の位置ずれを見込んだシフト量9を設計描画位置に対して重畳し、すなわち、偏向器に設定電圧を印加した際に電圧が安定位置する応答時間を用いて電圧設定して電子線露光を行うために、電子線14偏向の振り遅れを生じさせる原因である偏向器17への印加電圧の安定性を全く考慮する必要がない。そのため、電子線照射前のダミー時間8から印加電圧が安定位置するまでの時間を最小限にする事ができ、従って、電子線14の描画スループットを大幅に削減する事が可能になる。
請求項（抜粋）：
ステージに載置された材料に電子線を偏向して所定のパターンを描画する電子線描画方法であって、電子線の偏向時に生じる偏向歪み補正後の所定のパターンの設計描画位置に対して、電子線偏向位置からの任意のシフト量を用いて電子線偏向位置を移動させ、該電子線偏向位置を用いて所定のパターンを描画することを特徴とする電子線描画方法。
IPC (4件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 504
, H01J 37/147
, H01J 37/305
H01L 21/30 541 B
, G03F 7/20 504
, H01J 37/147 C
, H01J 37/305 B
