特許
J-GLOBAL ID：200903026816092102
荷電粒子線装置用ブランキング制御方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-184316
公開番号（公開出願番号）：特開平5-028942
出願日： 1991年07月24日
公開日（公表日）： 1993年02月05日
要約：
【要約】【目的】本発明は、複数回のブランキング操作による不要な試料面上レジストの露光を低減し、描画パターン精度を向上させることにある。【構成】図1に示す電子線描画装置用ブランキング制御方法において、描画制御回路2から発生する描画データにより、複数のブランキング点をブランキング切り替え回路4とブランキング制御回路5を使って制御し、次のビーム偏向位置情報によってブランキング点を選択する機能を有することを特徴とする。【効果】上記の構成により、描画パターンによっては、局所的にブランキング操作が重なる事や試料中心面を必要以上に横切る事等による不要な露光を低減し、試料中心の偏向範囲に対する、ブランキング速度を見かけ上、早めると共に、ビームオン時に制御回路に混入するノイズ等の影響を低減することが可能となる。
請求項（抜粋）：
ブランキング板等を用いた偏向動作による線源のオン・オフを行なう機能を具備する荷電粒子線装置において、次のビーム偏向位置の情報をブランキング制御動作に反映する機能を有することを特徴とする荷電粒子線装置。
IPC (3件)：
H01J 37/147
, H01J 37/305
, H01L 21/027
