特許

J-GLOBAL ID：200903026838321474

露光システム、デバイス製造方法、半導体製造工場および露光装置の保守方法

発明者： 高野 伸
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 伊東 哲也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-208958
公開番号（公開出願番号）：特開2003-022962
出願日： 2001年07月10日
公開日（公表日）： 2003年01月24日
要約：

【要約】【課題】 露光装置と周辺装置の稼働状況を考慮して校正処理タイミングの最適化を図ることで露光装置を有効に活用し、トータルスループットを向上させる。【解決手段】 ウエハに対して露光処理を行うための露光装置23、露光処理前後のウエハに各種処理を施すためのウエハ処理装置21、および相互通信可能なネットワークを介してこれらの装置に接続されるホストコンピュータ11からなり、露光装置23の校正機能を有する露光システムにおいて、ウエハ処理装置21により、露光前後に行う各処理にかかる時間と、露光装置23により、露光前に行う各処理にかかる時間とを、各製造ロットについて予め実験により計測して記憶しておく。ホストコンピュータ11は、露光装置23およびウエハ処理装置21の各処理にかかる時間を、記憶した処理時間から予測して校正処理の調整を行う。

請求項（抜粋）：

ウエハに対して露光処理を行うための露光装置、前記露光処理前後のウエハに各種処理を施すためのウエハ処理装置、および相互通信可能な通信手段を介してこれらの装置に接続されるホストコンピュータからなり、前記露光装置の校正機能を有する露光システムにおいて、前記ホストコンピュータが、前記露光装置および前記ウエハ処理装置の各処理にかかる時間を考慮して校正処理の調整を行う機能を有することを特徴とする露光システム。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (4件)：

G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 516 Z ,  H01L 21/30 502 G ,  H01L 21/30 562

Fターム (5件)：

5F046AA17 ,  5F046AA28 ,  5F046DA30 ,  5F046JA22 ,  5F046LA18