特許

J-GLOBAL ID：200903026853738020

結晶性薄膜の作製方法及び装置

発明者： 島田 敏宏 ,  長谷川 哲也
出願人/特許権者： 財団法人神奈川科学技術アカデミー
代理人 (3件)： 小池 晃 ,  田村 榮一 ,  伊賀 誠司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-093462
公開番号（公開出願番号）：特開2005-281011
出願日： 2004年03月26日
公開日（公表日）： 2005年10月13日
要約：

【課題】 液体に対して溶解性のある前駆体原料から高結晶性の薄膜を大気圧下で膜厚を高精度に制御しつつ作製する。【解決手段】 作製すべき薄膜の前駆体原料を基板12上に付着させ、前駆体原料を溶解させるための溶媒を気化することにより溶媒蒸気を生成し、生成した溶媒蒸気を前駆体原料に接触させることにより、これを大気圧下で結晶化させる。このとき、生成した溶媒蒸気の濃度を調整することにより前駆体原料の結晶化を制御する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

結晶性を有する薄膜を作製する結晶性薄膜の作製方法において、 作製すべき薄膜の前駆体原料を基板上に付着させる付着工程と、 上記前駆体原料を溶解させるための溶媒を気化することにより溶媒蒸気を生成する溶媒蒸気生成工程と、 上記溶媒蒸気生成工程において生成した溶媒蒸気を上記前駆体原料に接触させることにより、これを大気圧下で結晶化させる結晶化工程とを有し、 上記溶媒蒸気生成工程では、さらに上記生成した溶媒蒸気の濃度を調整することにより上記結晶化工程における上記前駆体原料の結晶化を制御すること を特徴とする結晶性薄膜の作製方法。

IPC (1件)：

C30B7/02

FI (1件)：

C30B7/02

Fターム (8件)：

4G077AA03 ,  4G077BF10 ,  4G077CB06 ,  4G077CB08 ,  4G077EA02 ,  4G077EG22 ,  4G077EJ01 ,  4G077EJ04