特許

J-GLOBAL ID：200903026854642850

光領域での干渉により歪まされた電気信号を等化するための方法及び設備

発明者： ヘニング・ビユーロウ
出願人/特許権者： アルカテル
代理人 (1件)： 川口 義雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-217622
公開番号（公開出願番号）：特開平11-112428
出願日： 1998年07月31日
公開日（公表日）： 1999年04月23日
要約：

【要約】【課題】 PMDの結果歪まされた入力電気信号の最良の可能な等化を見いだす方法と、特にこの方法を実施するための、改良された電気的等化設備とを提供する。【解決手段】 光ファイバにより伝達された光信号(L)から得られ、光信号(L)の干渉、たとえば偏光モードの分散(PMD)の結果歪まされた入力電気信号(S)の電気的等化設備は、入力電気信号(S)が供給される複数(n>1)の並列に接続した異なる可変電子等化器(E1、...、Ei...、En)と、それぞれ最良の等化を行う電子等化器(Ei)の出力電気信号(Si)を選択し、上記最良の等化を行う電子等化器の一組の等化パラメータ(Ei,1、...、Ei,m)を、等化された出力信号(Si)の質(Q)が最適化されるように制御する制御装置(3)を具備する。これにより、現在満足に動作している等化器を選択することが可能になる。

請求項（抜粋）：

光ファイバにより伝達された光信号(L)から得られ、光信号の干渉により歪まされた入力電気信号(S)の可能な最良の等化を見いだす方法であって、上記方法が、歪まされた出力信号(S1、...、Si、...、Sn)の質(Q)を決定する段階と、少なくとも一組(i)の等化パラメータ(Ei,1、...、Ei,m)を、ひずみが発生する干渉を特徴付ける少なくとも二つの任意に推定した干渉パラメータ(P1、...、Pj)の関数として決定する段階であって、ここで干渉パラメータ(P1、...、Pj)の数(j)が少なくとも一組(i)の等化パラメータ(Ei,1、...、Ei,m)の数(m)より小さい段階と、次に干渉パラメータ(P1、...、Pj)を変化させ、これにより少なくとも一組(i)の等化パラメータ(Ei,1、...、Ei,m)を、等化した出力信号(S1、...、Si、...、Sn)の質(Q)が最適化されるまで変化させる段階とを含む方法。

IPC (4件)：

H04B 10/02 ,  H04B 10/18 ,  H03F 3/08 ,  H04B 3/04

FI (3件)：

H04B 9/00 M ,  H03F 3/08 ,  H04B 3/04 Z