反応管冷却方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：稲垣仁義
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-017410
公開番号（公開出願番号）：特開平8-187426
出願日： 1995年01月10日
公開日（公表日）： 1996年07月23日
要約：

【要約】【目的】この発明は、赤外線ランプを使用した放射加熱により基板を加熱処理する方法に於いて、反応ガスが分解して反応管の内側の壁面に成膜するのを防止した反応管冷却方法を提供することを目的とする。【構成】この発明に於いては、赤外線ランプ7と赤外線を通過させる石英反応管3との間に石英の隔壁4を設けて石英反応管を二重構造とし、前記赤外線ランプと前記隔壁との間及び前記隔壁と前記石英反応管との間に形成された通路に冷却用エア-を通過させる。

請求項（抜粋）：

赤外線ランプを使用した放射加熱により基板を加熱処理する方法に於いて、前記赤外線ランプと赤外線を通過させる石英反応管との間に石英の隔壁を設けて石英反応管を二重構造とし、前記赤外線ランプと前記隔壁との間及び前記隔壁と前記石英反応管との間に形成された通路に冷却用エア-を通過させることを特徴とする反応管冷却方法。

IPC (5件)：

B01J 3/00 , B01J 19/00 301 , C23C 14/50 , H01L 21/22 501 , H01L 21/324

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