特許

J-GLOBAL ID：200903026895877950

ガス分離装置

発明者： 染谷 喜幸 ,  小出 秀人 ,  吉田 利彦
出願人/特許権者： 東燃株式会社
代理人 (1件)： 河備 健二 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-261458
公開番号（公開出願番号）：特開平10-085568
出願日： 1996年09月10日
公開日（公表日）： 1998年04月07日
要約：

【要約】【課題】 高温で使用可能で、且つ高いガス(特に水素)透過速度と高いガス(特に水素)分離性能を有する、分離膜を利用するガス分離装置を提供する。【解決手段】 多孔質支持体上に分離膜を設けたガス分離装置において、上記多孔質支持体が径10Å以上400Å未満の細孔を有する層と径400Å以上100000Å未満の細孔を有する層との少なくとも2層からなり、かつ該多孔質支持体の小さい孔径側に上記分離膜として細孔径2〜10Åの多孔質シリカ膜を形成させる。

請求項（抜粋）：

多孔質支持体上に設けた分離膜を利用するガス分離装置において、上記多孔質支持体が径10Å以上400Å未満の細孔を有する層と径400Å以上100000Å未満の細孔を有する層との少なくとも2層からなり、かつ該多孔質支持体の小さい孔径側に上記分離膜として細孔径2〜10Åの多孔質シリカ膜を形成させてなることを特徴とするガス分離装置。

IPC (4件)：

B01D 71/02 500 ,  B01D 53/22 ,  B01D 71/70 ,  C01B 33/12

FI (4件)：

B01D 71/02 500 ,  B01D 53/22 ,  B01D 71/70 ,  C01B 33/12 C