特許
J-GLOBAL ID：200903026900497827
パターン形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-062630
公開番号（公開出願番号）：特開平11-260699
出願日： 1998年03月13日
公開日（公表日）： 1999年09月24日
要約：
【要約】【課題】既存のパターンデータのみでコントラストの良い露光を合わせずれなく行うことを可能とする。【解決手段】複数回の露光によりポジ型のレジストにゲートパターン2の転写を行うパターン形成方法において、素子領域3及びゲートパターン2の形成領域を遮光部とするマスクパターン4と、素子領域3からゲートパターン2の形成領域をひいた領域を透光部とするマスクパターン5とを発生し、これらマスクパターン4,5を有するフォトマスクをそれぞれに最適な露光条件で重ね露光を行うことでレジストパターンを形成する。
請求項（抜粋）：
複数回の露光によりポジ型のレジストにパターンの転写を行うパターン形成方法において、露光すべきパターンレベルをそれ以外のパターンレベルとの論理演算をとることにより分割し、該分割された複数のパターンレベルを有する複数のフォトマスクを用い、それぞれに最適な露光条件で重ね露光を行うことでレジストパターンを形成することを特徴とするパターン形成方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
H01L 21/30 502 C
, G03F 7/20 521
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (8件)
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