特許
J-GLOBAL ID：200903026915834757
基板露光装置におけるギャップ制御方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
西山 春之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-348388
公開番号（公開出願番号）：特開平5-159998
出願日： 1991年12月05日
公開日（公表日）： 1993年06月25日
要約：
【要約】【目的】 基板露光装置におけるギャップ制御方法において、大型サイズのガラス基板であってもその全面にわたって正しいギャップ量を保証する。【構成】 マスクチャック2及び基板チャック4の平面度を測定してそれぞれを平均化した擬似平面z1,z2を求め、基板チャックの擬似平面z2をマスクチャックの擬似平面z1の下方に平行で且つ所定のギャップgをあけたところに設定し、位置合わせ用の複数の光学系F,R,Cで実測したマスク1の下面とマスクチャックの擬似平面z1との差及び上記複数の光学系F,R,Cの位置における基板チャック4の実平面とその擬似平面z2との差を求め、この求めた二つの差を上記複数の光学系の位置におけるオフセット値として上記所定のギャップ量に対し加減算して上記各光学系のフォーカス位置を設定し、このフォーカス位置にガラス基板3の上面が位置するように基板チャック4を上昇させる。これにより、マスク1の下面とガラス基板3の上面との間に平均したギャップを設定できる。
請求項（抜粋）：
配線パターンが形成されたマスクをマスクチャックで支持し、このマスクの下方にはガラス基板を基板チャックに載せて保持すると共に上記マスク下面とガラス基板の上面との間に所定のギャップをあけて位置合わせをし、上記マスクの上方から露光用の光を照射して該マスクに形成された配線パターンを上記ガラス基板に焼き付ける基板露光装置において、上記マスクチャック及び基板チャックの平面度を測定してそれぞれを平均化した擬似平面を求め、基板チャックの擬似平面をマスクチャックの擬似平面の下方に平行で且つ所定のギャップをあけたところに設定し、位置合わせ用の複数の光学系で実測したマスク下面とマスクチャックの擬似平面との差及び上記複数の光学系の位置における基板チャックの実平面とその擬似平面との差を求め、この求めた二つの差を上記複数の光学系の位置におけるオフセット値として上記所定のギャップ量に対し加減算して上記各光学系のフォーカス位置を設定し、このフォーカス位置にガラス基板の上面が位置するように基板チャックを上昇させることにより、マスク下面とガラス基板の上面との間に平均したギャップを設定することを特徴とする基板露光装置におけるギャップ制御方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
