特許
J-GLOBAL ID：200903026940944559
コーティング用組成物及びそれにより得られる膜
発明者：
出願人/特許権者：
,
代理人 (1件)：
板谷 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-230745
公開番号（公開出願番号）：特開2006-045419
出願日： 2004年08月06日
公開日（公表日）： 2006年02月16日
要約：
【課題】マイナスイオン発生機能を備えた塗膜を形成できるコーティング用組成物及びそれにより得られる膜を提供する。【解決手段】(a)一般式M2O・nSiO2で表されるシリカゾルをSiO2換算で、1〜35重量部、(b)イオン発生物質を0.1〜30重量部、(c)無機充填材を0〜50重量部、(d)水を5〜80重量部[但し、(a)+(b)+(c)+(d)=100重量%]を含んで調整したコーティング用組成物である。
請求項（抜粋）：
(a)一般式M2O・nSiO2[但し、MはNa及びR4N(Rは1価の有機酸)]で表されるシリカゾルをSiO2換算で、1〜35重量部、(b)イオン発生物質を0.1〜30重量部、(c)無機充填材を0〜50重量部、(d)水を5〜80重量部[但し、(a)+(b)+(c)+(d)=100重量%]を含むことを特徴とするコーティング用組成物。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (5件)：
4J038AA011
, 4J038HA216
, 4J038HA441
, 4J038KA08
, 4J038KA20
