特許
J-GLOBAL ID:200903026941269499

エンドトキシンの吸着除去剤

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 細田 芳徳
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-180513
公開番号(公開出願番号):特開平8-019736
出願日: 1994年07月07日
公開日(公表日): 1996年01月23日
要約:
【要約】【構成】一般式(I) R13N+ R2 SiR3 nX3-n Y- (式中、Xはハロゲン原子、アルコキシ基、アシル基などの加水分解可能な基であり、Yは塩素原子または臭素原子を表す。R1 は同一または異なる炭素数1〜22の1価の脂肪族炭化水素基を、R2 は2価の炭化水素基を、R3 は炭素数1〜3の低級アルキル基、フェニル基、またはCF3 CH2 CH2 を表す。nは0、1または2を表す。)で示されるオルガノシリコン第四級アンモニウム塩を固定化した水不溶性固体を有効成分として含有することを特徴とするエンドトキシンの吸着除去剤、並びに該吸着除去剤を用いたエンドトキシンの吸着除去方法。【効果】本発明の吸着除去剤を用いることにより、生物体にとって有害なエンドトキシンを有効に吸着除去することができる。
請求項(抜粋):
一般式(I)で示されるオルガノシリコン第四級アンモニウム塩を固定化した水不溶性固体を有効成分として含有することを特徴とするエンドトキシンの吸着除去剤。R13N+ R2 SiR3 nX3-n Y- (I)(式中、Xはハロゲン原子、アルコキシ基、アシル基などの加水分解可能な基であり、Yは塩素原子または臭素原子を表す。R1 は同一または異なる炭素数1〜22の1価の脂肪族炭化水素基を、R2 は2価の炭化水素基を、R3 は炭素数1〜3の低級アルキル基、フェニル基、またはCF3 CH2 CH2 を表す。nは0、1または2を表す。)
IPC (3件):
B01J 20/22 ,  A61K 9/08 ,  B01D 15/00
引用特許:
出願人引用 (4件)
  • 特開平3-196810
  • 特開平4-011911
  • 特開平1-117823
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