特許
J-GLOBAL ID：200903026943746065
多重真空処理方法、その装置、機能性フィルムの製造方法及び機能性フィルム
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
光来出 良彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-337808
公開番号（公開出願番号）：特開平8-176326
出願日： 1994年12月27日
公開日（公表日）： 1996年07月09日
要約：
【要約】【目的】 同一の真空チャンバー内において、ある真空処理が行われた後に、大気圧に戻すことなく継続的に別の真空処理を行うことができる多重真空処理方法、その装置、その方法により得られた機能性フィルムを提供する。【構成】 真空チャンバー1内において、走行しているウェッブ2、例えば、プラスチック基材フィルムに対して、複数種類の真空処理の真空条件が同じならばそれらの処理(例えば、プラズマ処理、プラズマCVD)を継続して行う。また真空条件が異なるならば、ウェッブ2に対してある真空処理を施して巻取り、大気圧に戻すことなく真空条件を変え、次いで、次の真空処理に適した走行速度でウェッブ2を逆走行させ、走行中のウェッブ2に対して先に施した真空処理とは異なる種類の真空処理を真空処理機構5、6、7(例えば、プラズマCVD、スパッタリング等)により行う。
請求項（抜粋）：
真空チャンバー内において、走行しているウェッブに対して互いに異なる複数種類の真空処理を大気圧に戻すことなく継続して施すことを特徴とする多重真空処理方法。
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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