特許
J-GLOBAL ID：200903026959734920
表面処理方法及び表面処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
薄田 利幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-312506
公開番号（公開出願番号）：特開平6-163480
出願日： 1992年11月24日
公開日（公表日）： 1994年06月10日
要約：
【要約】【目的】高レベルの金属汚染の発生を防止した表面処理装置を提供すること。【構成】オゾン発生器1、処理室8、両者の間のガスの配管4、6、7の少なくともガスと接触する部分の構成材料をアルマイト、高純度石英、フッソ樹脂、サファイア及びシリコンカーバイトからなる群から選ばれた少なくとも一種の材料とするか又はオゾン発生器1に導入される酸素及び窒素を所定の値以下の水分濃度とした表面処理装置。
請求項（抜粋）：
オゾン発生器及び該オゾン発生器で生成したオゾンを用いて試料表面を処理するための処理室を有する表面処理装置において、上記オゾン発生器、上記処理室及び両者の間のガスの流路の少なくともガスと接触する部分の構成材料は、アルマイト、高純度石英、フッソ樹脂、サファイア及びシリコンカーバイトからなる群から選ばれた少なくとも一種の材料であることを特徴とする表面処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/302
, H01L 21/027
