特許
J-GLOBAL ID：200903026968296242
X線又はEUVを発生させるための装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
矢野 敏雄
, 山崎 利臣
, 久野 琢也
, アインゼル・フェリックス=ラインハルト
, ラインハルト・アインゼル
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-239476
公開番号（公開出願番号）：特開2007-073517
出願日： 2006年09月04日
公開日（公表日）： 2007年03月22日
要約：
【課題】粒子線とターゲットとの衝突点と、規定された衝突点とのずれが減じられており、ターゲットとの衝突点に関して粒子線の位置安定性も改善されているものを提供する。【解決手段】互いに垂直な2つの軸線(X軸線及びY軸線)に沿って粒子線を偏向するためのそれぞれの偏向ユニット(26,32)が、次のように形成されている、すなわち、第1の偏向点(20)と第2の偏向点(22)とが、粒子線(12)とターゲットとの規定された、又は規定可能な衝突点(24)と同軸線上に位置しているように形成されているようにした。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
X線又はEUV線を発生させるための装置であって、電気的に負荷された粒子の粒子線をターゲットに向けるための手段と、粒子線を偏向するための偏向手段とが設けられており、これにより、粒子線の中央軸線が、第1の偏向点と、該第1の偏向点に対して放射方向に離隔された第2の偏向点とを通過するようになっており、前記偏向手段が、粒子線の中央軸線が第1の偏向点を通過するように粒子線を偏向するための第1の偏向ユニットを有しており、かつ第1の偏向ユニットに対して粒子線の放射方向に離隔された、粒子線の中央軸線が第2の偏向点を通過するように粒子線を偏向するための第2の偏向ユニットを有しており、粒子線が、偏向ユニットにより、1つの偏向点に関して、別の偏向点に関連した偏向とは無関係に偏向可能になっている形式のものにおいて、
互いに垂直な2つの軸線(X軸線及びY軸線)に沿って粒子線を偏向するためのそれぞれの偏向ユニット(26,32)が、次のように形成されている、すなわち、第1の偏向点(20)と第2の偏向点(22)とが、粒子線(12)とターゲットとの規定された、又は規定可能な衝突点(24)と同軸線上に位置しているように形成されていることを特徴とする、X線又はEUV線を発生させるための装置。
IPC (3件)：
H01J 35/14
, H01L 21/027
, H05G 1/00
H01J35/14
, H01L21/30 531S
, H05G1/00 E
4C092AA01
, 4C092AA02
, 4C092AB10
, 4C092BD16
, 5F046GC01
