特許
J-GLOBAL ID:200903026971354849

水銀増感型光CVD装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 八木田 茂 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-207843
公開番号(公開出願番号):特開平6-061152
出願日: 1992年08月04日
公開日(公表日): 1994年03月04日
要約:
【要約】 (修正有)【目的】成膜室へ導入される水銀の導入量を水銀溜め内の水銀量の変化やキヤリアガスの流量の変動に関係なく所望のレベルに維持できるようにする。【構成】成膜室21へ導入される水銀の導入量を測定する水銀濃度検出器35と、水銀濃度検出器で検出された水銀濃度に基いて水銀溜めの温度を制御する制御装置40とを設けた。
請求項(抜粋):
成膜室と、温度制御可能な水銀溜めを備え、成膜室内に反応ガスを導入する反応ガス導入系と、成膜室内に光を照射する光源と、成膜室を排気する排気系とを有し、光源からの光を用いて光化学反応を起こさせ、基板上に薄膜を堆積する水銀増感型光CVD装置において、成膜室と排気系の間に排気ガス中の水銀濃度を検出する水銀濃度検出器を設けたことを特徴とする水銀増感型光CVD装置。
IPC (2件):
H01L 21/205 ,  C23C 16/48

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