特許
J-GLOBAL ID：200903027009226703

クリーニング組成物および残留物を除去する方法

発明者：
ヴィンセント・ジー・リーオン

ヴィンセント・ジー・リーオン について

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ケンジ・ホンダ

ケンジ・ホンダ について

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ユージーン・エフ・ロスゲリー

ユージーン・エフ・ロスゲリー について


出願人/特許権者：
アーチ・スペシャルティ・ケミカルズ・インコーポレイテッド

アーチ・スペシャルティ・ケミカルズ・インコーポレイテッド について


代理人 (1件)： 高木 千嘉 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-549692
公開番号（公開出願番号）：特表2002-515537
出願日： 1999年05月18日
公開日（公表日）： 2002年05月28日
要約：
【要約】水をベースとし、フォトレジスト、プラズマエッチおよびCMPの残留物を基板から除去するのに有用な非腐食性のクリーニング組成物。好ましい1つのクリーニング組成物は、(i)ヒドロキシルアミンまたはヒドロキシルアミン塩化合物、(ii)少なくとも1つのフッ素含有化合物、および(iii)水を含む。別なクリーニング組成物は(i)アミン、4級アンモニウムハイドロオキサイドおよびアンモニウムハイドロオキサイドからなる群から選択される化合物、(ii)少なくとも1つのフッ素含有化合物、および(iii)水を含む。
請求項（抜粋）：
(i) ヒドロキシルアミンまたはヒドロキシルアミン塩化合物、 (ii) 少なくとも1つのフッ素含有化合物、および (iii) 水を含むクリーニング組成物。
IPC (4件)：
C11D 1/62 ,  C11D 3/24 ,  C11D 3/30 ,  C11D 17/08
FI (4件)：
C11D 1/62 ,  C11D 3/24 ,  C11D 3/30 ,  C11D 17/08
Fターム (19件)：
4H003BA12 ,  4H003DA15 ,  4H003EA05 ,  4H003EA31 ,  4H003EB04 ,  4H003EB07 ,  4H003EB08 ,  4H003EB12 ,  4H003EB13 ,  4H003EB14 ,  4H003EB19 ,  4H003EB20 ,  4H003ED02 ,  4H003ED19 ,  4H003ED21 ,  4H003ED26 ,  4H003EE03 ,  4H003FA15 ,  4H003FA28
引用特許：
審査官引用 (9件)
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