特許
J-GLOBAL ID：200903027020341255
フォトマスク
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
宮越 典明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-046340
公開番号（公開出願番号）：特開平10-239827
出願日： 1997年02月28日
公開日（公表日）： 1998年09月11日
要約：
【要約】【課題】 微細パターン形成用フォトマスクであって、メインパターンと略同寸法の補助パターンを用いることにより、メインパターンの焦点深度を最大限に拡大し、また、補助パターンマスクの製造・検査を容易にするフォトマスクを提供すること。【解決手段】 メインパターン11の周辺に、このメインパターン11と同寸法の補助パターン12a〜12dが4つ配置されている。このようにメインパターン11と同寸法の補助パターン12a〜12dを配置することにより、特に変形照明を用いた露光での焦点深度を拡大する。また、補助パターン12a〜12dの透明基板101は、位相差360度相当の深さにエッチングされ、この側壁部の効果により、補助パターン12a〜12dの転写が防止される。
請求項（抜粋）：
透明基板上の遮光膜に開口されたメインパターンと、該メインパターンの周辺に配置された補助パターンとを有するフォトマスクにおいて、前記補助パターン部分の前記透明基板は、露光光に“360度のk倍”(kは“0”以外の整数)の位相差を生じさせる深さにエッチングされていることを特徴とするフォトマスク。
FI (2件)：
G03F 1/08 A
, G03F 1/08 D
