特許
J-GLOBAL ID：200903027027358722
軟磁性膜の製造方法及びその軟磁性膜を用いた磁気ヘッド
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
浅井 章弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-178210
公開番号（公開出願番号）：特開平9-007874
出願日： 1995年06月21日
公開日（公表日）： 1997年01月10日
要約：
【要約】【目的】 等方膜に近い特性の軟磁性膜を容易に得ることができる軟磁性膜の製造方法を提供する。【構成】 窒素ガスを用いたスパッタによる鉄基微結晶の軟磁性膜2の製造方法において、前記窒素ガスの分圧の異なる雰囲気中でスパッタした磁性層2A,2Bを複数層積層することにより前記軟磁性膜を形成するように構成する。これにより、全体としての磁歪が略ゼロの一軸異方性の弱い軟磁性膜を作る。
請求項（抜粋）：
窒素ガスを用いたスパッタによる鉄基微結晶の軟磁性膜の製造方法において、前記窒素ガスの分圧の異なる雰囲気中でスパッタした磁性層を複数層積層することにより前記軟磁性膜を形成するように構成したことを特徴とする軟磁性膜の製造方法。
IPC (4件)：
H01F 41/18
, G11B 5/147
, G11B 5/31
, H01F 10/14
H01F 41/18
, G11B 5/147
, G11B 5/31 A
, H01F 10/14
