特許
J-GLOBAL ID:200903027057438062

投影露光装置及び位置合わせ方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 立石 篤司 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-343739
公開番号(公開出願番号):特開平10-223528
出願日: 1997年11月28日
公開日(公表日): 1998年08月21日
要約:
【要約】【課題】 アライメントのための計測時間を短縮して、スループットの向上を図る。【解決手段】 2つの計測光学系26,28の内一つの計測光学系28が投影光学系PLの光軸に直交する平面内でXY2次元方向に移動可能であることから、この移動可能な計測光学系28の位置調整を行って、感光基板W上に所定間隔で配置された位置合わせ用マークの位置関係に対応して計測光学系26,28間の間隔(又は位置関係)を調整することにより、2つの位置合わせ用マークを同時に計測することが可能になる。従って、位置合わせマークを一つずつ計測していた従来の場合に比べてマーク計測に要する時間を短縮することが可能になる。
請求項(抜粋):
マスク上に形成されたパターンを、複数の位置合わせ用マークが形成された感光基板上に転写する投影露光装置であって、投影光学系と;前記投影光学系を介さないで前記複数の位置合わせ用マークを計測する複数の計測光学系とを備え、この内の少なくとも1つが前記投影光学系の光軸に直交する平面内で少なくとも一軸方向に移動可能であることを特徴とする投影露光装置。
IPC (3件):
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00
FI (3件):
H01L 21/30 525 D ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 H

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