特許
J-GLOBAL ID：200903027061375091
真空処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-174867
公開番号（公開出願番号）：特開平5-021579
出願日： 1991年07月16日
公開日（公表日）： 1993年01月29日
要約：
【要約】【目的】 本発明は、真空処理装置に関し、搬送室と処理室間でウェーハを搬送装置で入れ換え搬送する際、搬送装置の動作を少なくしてウェーハの入れ換え時間を短縮することができ、装置の処理能力を向上させることができ、しかも1個の処理室と搬送室間でウェーハを入れ換え搬送することができ、各処理室間でクロスコンタミネーションを生じないようにすることができ、更には、上下動させないで精度良く、かつ容易にウェーハを入れ替え搬送することができる真空処理装置を提供することを目的とする。【構成】 ゲート弁4を介して処理室3b、3cと隣接して設けられた搬送室1と、該処理室3b、3cと該搬送室1間でウェーハを搬送するフィンガーを有する搬送装置2とを有する枚葉式の真空処理装置において、該搬送室1のフィンガー2aを少なくも2個以上にし、かつ該フィンガー2a同志を水平に設けるように構成する。
請求項（抜粋）：
ゲート弁(4)を介して処理室(3b、3c)と隣接して設けられた搬送室(1)と、該処理室(3b、3c)と該搬送室(1)間でウェーハを搬送するフィンガーを有する搬送装置(2)とを有する枚葉式の真空処理装置において、該搬送室(1)のフィンガー(2a)を少なくも2個上にし、かつ該フィンガー(2a)同志を水平方向に設けて構成することを特徴とする真空処理装置。
IPC (2件)：
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