特許
J-GLOBAL ID:200903027062654440

1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパンの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高木 千嘉 (外2名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-506537
公開番号(公開出願番号):特表平10-503518
出願日: 1995年07月25日
公開日(公表日): 1998年03月31日
要約:
【要約】3価クロムを含む触媒の存在で約200°C〜400°Cの温度で1,1,1,3,3,3-ヘキサクロロプロパンを気相で弗化水素と接触して、CF3CH2CF3とそのハロ前駆体を含有する弗素化生成物を少なくとも約95%の選択率で生成し;そして3価クロムを含む触媒の存在で約200°C〜400°Cの温度で、このハロ前駆体を十分な量、気相で弗化水素と接触して、最初にHFと反応される1,1,1,3,3,3-ヘキサクロロプロパンの量を基準とする、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパンへの全般的な選択率を少なくとも約95%とすることからなる1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパンの製造方法が開示されている。
請求項(抜粋):
(1)3価クロムを含む触媒の存在で約200°C〜400°Cの温度で1,1,1,3,3,3-ヘキサクロロプロパンを気相で弗化水素と接触して、CF3CH2CF3とそのハロ前駆体を含有する弗素化生成物を少なくとも約95%の選択率で生成し;そして (2)3価クロムを含む触媒の存在で約200°C〜400°Cの温度で、このハロ前駆体を十分な量、気相で弗化水素と接触して、(1)でHFと反応される1,1,1,3,3,3-ヘキサクロロプロパンの量を基準とする、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパンへの全般的な選択率を少なくとも約95%とすることからなる1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパンの製造方法。
IPC (5件):
C07C 19/08 ,  B01J 23/26 ,  B01J 27/132 ,  C07B 61/00 300 ,  C07C 17/20
FI (5件):
C07C 19/08 ,  B01J 23/26 Z ,  B01J 27/132 Z ,  C07B 61/00 300 ,  C07C 17/20

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