特許

J-GLOBAL ID：200903027065386152

レジスト組成物

発明者： 並木 崇久 ,  渡部 慶二 ,  矢野 映
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 青木 朗 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-195352
公開番号（公開出願番号）：特開平6-035195
出願日： 1992年07月22日
公開日（公表日）： 1994年02月10日
要約：

【要約】【目的】 ターシャルブチルオキシカルボニルオキシ基の最適置換率を有するポリヒドロキシスチレンを樹脂成分としたレジスト組成物を提供することを目的とする。【構成】 上記目的達成のため、本発明のレジスト組成物を、含有する水酸基の約15%〜25%を、次式I:【化1】のターシャルブチルオキシカルボニルオキシ基で置換したポリヒドロキシスチレンから成る樹脂成分100重量部および酸発生剤1〜30重量部から構成する。かかるレジスト組成物は、高感度および高コントラストのレジストパターンを与える。

請求項（抜粋）：

含有する水酸基の約15%〜25%を、次式I:【化1】のターシャルブチルオキシカルボニルオキシ基で置換されたポリヒドロキシスチレンから成る樹脂成分100重量部および露光により酸を発生する酸発生剤1〜30重量部を含んでなるレジスト組成物。

IPC (6件)：

G03F 7/038 505 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/028 ,  G03F 7/039 501 ,  G03F 7/26 ,  H01L 21/027