特許
J-GLOBAL ID：200903027067729871
薄膜磁気ヘッドの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山本 恵一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-066714
公開番号（公開出願番号）：特開平8-241514
出願日： 1995年03月02日
公開日（公表日）： 1996年09月17日
要約：
【要約】【目的】 スライダを小型化した場合にも、高い寸法精度でスライダ加工が行え、歩留の低下を防止できる薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する。【構成】 薄膜磁気ヘッドのスライダ14として要求される長さより厚い基板10の一方の面上に複数の磁気ヘッド素子11を形成する工程と、複数の磁気ヘッド素子11を形成したこの基板10を切断分割して、スライダ14の形状加工を行うスライダ加工工程とを備えた薄膜磁気ヘッドの製造方法である。このスライダ加工工程において、基板10の磁気ヘッド素子形成面とは反対側部分12aを切除することによりスライダ14の長さが所望長に加工される。
請求項（抜粋）：
薄膜磁気ヘッドのスライダとして要求される長さより厚い基板の一方の面上に複数の磁気ヘッド素子を形成する工程と、複数の磁気ヘッド素子を形成した該基板を切断分割して、前記スライダの形状加工を行うスライダ加工工程とを備えた薄膜磁気ヘッドの製造方法であって、前記スライダ加工工程において、前記基板の磁気ヘッド素子形成面とは反対側部分を切除することにより該スライダの長さを所望長に加工することを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
IPC (3件)：
G11B 5/60
, G11B 5/31
, G11B 21/21 101
G11B 5/60 C
, G11B 5/31 M
, G11B 21/21 101 L
