特許
J-GLOBAL ID：200903027074540687
厚膜の成膜方法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-264277
公開番号（公開出願番号）：特開平8-124858
出願日： 1994年10月27日
公開日（公表日）： 1996年05月17日
要約：
【要約】【目的】 メタルマスクを用いた成膜方法の工程を低減するとともに、成膜が困難であった厚膜のパターンを得ることを目的とする。【構成】 基板14上にメタルマスク16を用いた厚膜の成膜方法において、成膜する基板14を保持する基板ホルダ13と、基板ホルダ13と独立したマスクホルダ17と、マスクホルダ17を堆積膜厚に応じて堆積方向に移動させる可動装置10とを有したことを特徴とした厚膜の成膜方法。
請求項（抜粋）：
基板上にメタルマスクを用いた厚膜の成膜方法において、成膜する基板を保持する基板ホルダと、前記基板ホルダと独立したマスクホルダと、前記マスクホルダを堆積膜厚に応じて堆積方向に移動させる可動装置とを有したことを特徴とした厚膜の成膜方法。
IPC (4件)：
H01L 21/203
, C23C 14/24
, H01L 21/321
, H01L 35/34
