特許

J-GLOBAL ID：200903027075456361

薄膜磁気ヘッド及びその製造方法

発明者： 越川 誉生 ,  戸田 順三
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 柏谷 昭司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-206399
公開番号（公開出願番号）：特開平6-131630
出願日： 1992年08月03日
公開日（公表日）： 1994年05月13日
要約：

【要約】【目的】 本発明は、磁気記録再生装置に用いる薄膜磁気ヘッド及びその製造方法に関し、上部磁極形成過程におけるリード線間ショート発生やオーバーエッチングによる導体コイル露出を防止することのできる薄膜磁気ヘッド及びその製造方法を提供することを目的としている。【構成】 本発明の薄膜磁気ヘッド21は、層間絶縁層24,ギャップ層26,記録再生用導体コイル23を挟んで磁気回路を形成する2つの磁極22,25を有し、浮上ヘッド等の基板の流出端側に設けられている。基板側の一方の磁極22の飽和磁束密度と、他方の磁極25のギャップ層26側の一部分25aの飽和磁束密度は、磁極25の残りの部分25bより大きくなっている。

請求項（抜粋）：

層間絶縁層,ギャップ層,記録再生用導体コイルを挟んで磁気回路を形成する少なくとも2つの磁極を有し、基板上に形成された薄膜磁気ヘッドにおいて、前記基板側の一方の磁極の飽和磁束密度と、他方の磁極の前記ギャップ層側の一部分の飽和磁束密度が、該他方の磁極の残りの部分の飽和磁束密度より大きいことを特徴とする薄膜磁気ヘッド。

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平4-023214
  
• 特開平4-157607
  
• 特開平4-163707