特許

J-GLOBAL ID：200903027077706489

反射・帯電防止膜の製造方法

発明者： 西村 善雄 ,  屋良 卓也
出願人/特許権者： 積水化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-231494
公開番号（公開出願番号）：特開平11-061406
出願日： 1997年08月27日
公開日（公表日）： 1999年03月05日
要約：

【要約】【課題】 連続的にグロー放電を行って、フィルム基材に含フッ素化合物の薄膜を形成し、これに導電層を設けて、反射・帯電防止膜とする製法を提供する。【解決手段】 有機フッ素化合物を含む大気圧で、少なくとも一方の対向電極に固体誘電体を設置してパルス化電界を印加して、フィルム基材に放電プラズマ処理を行って反射防止膜を形成する。次に、この反射防止膜に、光硬化性導電性組成物を塗工した合成樹脂シートを貼合して、フィルム基材/反射防止膜/光硬化性導電性組成物/合成樹脂シートの積層体を作り、この積層体に紫外線照射して硬化体とし、これからフィルム基材を剥離して、反射・帯電防止膜を製造する方法を特徴とする。

請求項（抜粋）：

有機フッ素化合物を含むガス雰囲気の大気圧近傍の圧力下で、対向電極の少なくとも一方の対向面に固体誘電体を設置し、当該対向電極間にパルス化された電界を印加することにより放電プラズマ処理を行って、フィルム基材上に含フッ素化合物からなる反射防止膜を形成し、該反射防止膜面を光硬化性導電性組成物を塗工した合成樹脂シートの塗工面に貼合して、フィルム基材/反射防止膜/光硬化性導電性組成物/合成樹脂シートで構成される積層体となし、該積層体をエネルギー線の照射によって硬化させた後に、フィルム基材を剥離して反射防止膜を露出させることを特徴とする反射・帯電防止膜の製造方法。

IPC (5件)：

C23C 16/00 ,  G02B 1/11 ,  C08J 7/00 ,  C08J 7/00 306 ,  C08J 7/04

FI (5件)：

C23C 16/00 ,  C08J 7/00 Z ,  C08J 7/00 306 ,  C08J 7/04 D ,  G02B 1/10 A