特許

J-GLOBAL ID：200903027090911610

チャンバーから貴ガスを回収する方法

発明者： ラビ・ジャイン ,  ウォルター・エイチ・ホワイトロック
出願人/特許権者： ザ・ビーオーシー・グループ・インコーポレーテッド
代理人 (1件)： 社本 一夫 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-223330
公開番号（公開出願番号）：特開平10-273307
出願日： 1997年08月20日
公開日（公表日）： 1998年10月13日
要約：

【要約】【課題】 チャンバーから貴ガスを回収する方法を提供する。【解決手段】 プロセスチャンバーを数種のガスのうちの1種でパージし、次いで幾つかある方法のうちの1つでパージガスから貴ガスを分離することによって、キセノン、ネオン、クリプトン、またはこれらの混合物から選ばれる貴ガスをプロセスチャンバーから回収する。分離された貴ガスをさらに精製して微量の不純物を除去し、次いでプロセスチャンバーでの再使用のために再循環する。パージガスの種類とその純度に応じて、パージガスを再循環することもできるし、あるいは廃棄してもよい。特定の実施態様においては、水素がパージガスとして使用され、パラジウム膜を使用する高温膜分離によって貴ガスから分離される。水素(高純度で得られる)と貴ガスはそれぞれ、プロセスチャンバーにおける再使用のために再循環される。

請求項（抜粋）：

(a) チャンバーにパージガスを通し、これによって貴ガスの実質的に全てを前記チャンバーからパージし、前記貴ガスと前記パージガスを含んだガス状流出物を生成させる工程;および(b) 貴ガス流れと貴ガスを実質的に含まないフラクションを前記ガス状流出物から分離する工程;を含む、チャンバーから貴ガスを回収する方法。

IPC (3件)：

C01B 23/00 ,  B01D 53/22 ,  H01J 9/50

FI (3件)：

C01B 23/00 Z ,  B01D 53/22 ,  H01J 9/50 A

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 堆積プロセスにおけるSiH4ソーク及びパージの利用
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-249796   出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド