特許
J-GLOBAL ID:200903027097635065

光ファイバ製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 長谷川 芳樹 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-311220
公開番号(公開出願番号):特開2001-130922
出願日: 1999年11月01日
公開日(公表日): 2001年05月15日
要約:
【要約】【課題】 所望の波長分散特性を有する光ファイバを精度よく製造することができる光ファイバ製造方法を提供する。【解決手段】 屈折率プロファイルが長手方向に均一である光ファイバ母材を用意し(ステップS1)、この光ファイバ母材の屈折率分布を測定し(ステップS2)、その測定結果に基づいて、この光ファイバ母材から線引して得られるであろう光ファイバの波長分散特性を予測して(ステップS3)、光ファイバ母材の線引を開始する(ステップS4)。光ファイバ母材の線引開始の際に得られた一定長さの光ファイバの波長分散を測定し(ステップS5)、この測定された波長分散に基づいて、目標とすべき波長分散を実現するためのファイバ径を決定する(ステップS6)。その後、光ファイバ母材の残部を線引して、所望のファイバ径分布すなわち波長分散分布を有する光ファイバを製造する(ステップS7)。
請求項(抜粋):
所定波長における波長分散が正である正分散区間と負である負分散区間とが交互に設けられた光ファイバの製造方法であって、屈折率プロファイルが長手方向に均一である光ファイバ母材を用意し、この光ファイバ母材の線引開始の際に得られた一定長さの光ファイバの波長分散を測定し、この測定された波長分散に基づいて、前記正分散区間および前記負分散区間それぞれの目標とすべき波長分散を実現するためのファイバ径を決定し、この決定されたファイバ径に基づいて前記光ファイバ母材の残部を線引して、前記正分散区間と前記負分散区間とが交互に設けられた光ファイバを製造する、ことを特徴とする光ファイバ製造方法。
IPC (2件):
C03B 37/027 ,  G02B 6/10
FI (2件):
C03B 37/027 A ,  G02B 6/10 C
Fターム (11件):
2H050AA00 ,  2H050AB05X ,  2H050AB10X ,  2H050AC14 ,  2H050AC15 ,  2H050AC28 ,  2H050AC38 ,  2H050AC83 ,  2H050AC84 ,  2H050BB01Q ,  4G021HA05
引用特許:
審査官引用 (1件)
  • 低分散光ファイバ
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平9-187060   出願人:株式会社フジクラ, 日本電信電話株式会社

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