特許
J-GLOBAL ID:200903027101947417
基板上に表面凹凸形状を有する有機物層に用いられる感光性樹脂組成物及び感光性エレメント
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-371891
公開番号(公開出願番号):特開2004-205615
出願日: 2002年12月24日
公開日(公表日): 2004年07月22日
要約:
【課題】基板上に、表面形状特性及び基板との密着性に優れ、簡便にかつ安価な方法で表面凹凸形状を有する有機物層を形成できる感光性樹脂組成物及び感光性エレメントを提供する。【解決手段】(I)基板上に、感光性樹脂組成物層を形成する工程、(II)感光性樹脂組成物層に活性光線を像的に照射する工程、(III)加熱することにより凹凸形状を形成する工程により作製された表面凹凸形状を有する基板において、表面に凹凸形状を形成するための有機物層であって、(A)1分子中に少なくとも1個の水酸基及び少なくとも2個のエチレン性不飽和基を有する光重合性不飽和化合物の水酸基に対して、(B)1分子中に1個のイソシアネート基を有し、さらに加水分解性基含有シリル基を少なくとも1個有する有機ケイ素化合物のイソシアネート基を反応させて得られる(a)シリル基含有光重合性不飽和化合物、(b)バインダポリマー、(c)少なくとも1個のエチレン性不飽和基を有する光重合性不飽和化合物、(d)活光性線により遊離ラジカルを生成する光重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
(I)基板上に、感光性樹脂組成物層を形成する工程、(II)感光性樹脂組成物層に活性光線を像的に照射する工程、(III)加熱することにより凹凸形状を形成する工程により作製された表面凹凸形状を有する基板において、表面に凹凸形状を形成するための有機物層であって、(A)1分子中に少なくとも1個の水酸基及び少なくとも2個のエチレン性不飽和基を有する光重合性不飽和化合物の水酸基に対して、(B)1分子中に1個のイソシアネート基を有し、さらに加水分解性基含有シリル基を少なくとも1個有する有機ケイ素化合物のイソシアネート基を反応させて得られる(a)シリル基含有光重合性不飽和化合物、(b)バインダポリマー、(c)少なくとも1個のエチレン性不飽和基を有する光重合性不飽和化合物、(d)活光性線により遊離ラジカルを生成する光重合開始剤を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。
IPC (9件):
G03F7/027
, C08F2/44
, C08F2/50
, G02B5/02
, G02B5/08
, G02F1/1333
, G03F7/004
, G03F7/075
, G03F7/38
FI (9件):
G03F7/027 513
, C08F2/44 C
, C08F2/50
, G02B5/02 C
, G02B5/08 C
, G02F1/1333 500
, G03F7/004 512
, G03F7/075 501
, G03F7/38 511
Fターム (48件):
2H025AB11
, 2H025AB17
, 2H025AC01
, 2H025AD03
, 2H025BC14
, 2H025BC32
, 2H025BC42
, 2H025BC50
, 2H025BC51
, 2H025BC83
, 2H025CA01
, 2H025CB13
, 2H025CB14
, 2H025CB52
, 2H025FA03
, 2H025FA12
, 2H025FA17
, 2H025FA29
, 2H025FA30
, 2H042BA04
, 2H042BA15
, 2H042BA20
, 2H042DC01
, 2H042DE04
, 2H090HA04
, 2H090HB07X
, 2H090HD06
, 2H090HD08
, 2H090JA02
, 2H090JB02
, 2H090JB03
, 2H090JD01
, 2H090LA20
, 2H096AA27
, 2H096AA28
, 2H096BA05
, 2H096BA20
, 2H096EA02
, 2H096FA01
, 2H096GA08
, 2H096HA01
, 2H096HA03
, 2H096JA02
, 4J011QA04
, 4J011QA43
, 4J011UA01
, 4J011VA01
, 4J011WA01
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