特許
J-GLOBAL ID:200903027102420528
テラヘルツパルス光計測装置
発明者:
出願人/特許権者:
,
代理人 (1件):
四宮 通
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-246789
公開番号(公開出願番号):特開2004-085359
出願日: 2002年08月27日
公開日(公表日): 2004年03月18日
要約:
【課題】対象物体の1次元領域の各部位の全体に渡るテラヘルツパルス光の電場強度の時系列波形の実時間計測を行う。【解決手段】アンテナ79で発生したテラヘルツパルス光は、放物柱面鏡82を経て、試料100の1次元領域に一括照射される。その透過パルス光L75を電気光学結晶61の1次元領域が一括受光する。チャーピングされかつパルス光L75と同期したプローブパルス光が、結晶86の1次元領域に一括照射される。検光子93は、結晶93を通過してパルス光L75により偏光状態が変化したプローブパルス光の特定偏光成分を抽出する。複数の分光器95は、特定偏光成分の抽出の後のプローブパルス光を、結晶86の1次元領域の各部位に対応するもの毎に、それぞれ分光して各波長成分毎の強度を得る。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
テラヘルツパルス光を対象物体の1次元領域に照射するテラヘルツパルス光照射部と、
前記対象物体の前記1次元領域を透過又は反射したテラヘルツパルス光を前記対象物体の前記一次元状領域に対応する1次元領域で一括受光する電気光学結晶又は磁気光学結晶と、
チャーピングされかつ前記テラヘルツパルス光と同期したプローブパルス光を、前記電気光学結晶又は前記磁気光学結晶の前記1次元領域に照射するプローブパルス光照射部と、
前記電気光学結晶又は前記磁気光学結晶を通過して前記テラヘルツパルス光により偏光状態が変化した前記プローブパルス光の特定偏光成分を抽出する検光部と、
前記検光部による特定偏光成分の抽出の後の前記プローブパルス光を、前記電気光学結晶又は前記磁気光学結晶の前記1次元領域の各部位に対応するもの毎に、それぞれ分光して各波長成分毎の強度を得る分光計測部と、
を備えたことを特徴とするテラヘルツパルス光計測装置。
IPC (6件):
G01N21/35
, G01J3/10
, G01J3/36
, G01J3/42
, G01N21/01
, H01S1/00
FI (6件):
G01N21/35 Z
, G01J3/10
, G01J3/36
, G01J3/42 U
, G01N21/01 D
, H01S1/00
Fターム (42件):
2G020AA03
, 2G020BA02
, 2G020CA02
, 2G020CA15
, 2G020CB04
, 2G020CB23
, 2G020CB54
, 2G020CC02
, 2G020CC47
, 2G020CC63
, 2G020CD06
, 2G020CD13
, 2G020CD15
, 2G020CD24
, 2G020CD35
, 2G059AA05
, 2G059BB08
, 2G059BB12
, 2G059CC16
, 2G059EE01
, 2G059EE02
, 2G059EE05
, 2G059FF01
, 2G059GG01
, 2G059GG04
, 2G059GG08
, 2G059GG10
, 2G059JJ01
, 2G059JJ05
, 2G059JJ11
, 2G059JJ13
, 2G059JJ14
, 2G059JJ17
, 2G059JJ18
, 2G059JJ19
, 2G059JJ22
, 2G059KK04
, 2G059MM01
, 2G059MM03
, 2G059MM05
, 2G059MM10
, 2G059PP04
引用特許:
引用文献:
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