特許
J-GLOBAL ID：200903027105397039
塗布装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-122608
公開番号（公開出願番号）：特開平5-293418
出願日： 1992年04月16日
公開日（公表日）： 1993年11月09日
要約：
【要約】【目的】 塗布工程中において塗布ヘッドの塗液による汚れを回避し、スジ発生を抑えて塗布厚みを均一にできる塗布装置。【構成】 支持体1の塗布面に予め塗布された有機溶剤を主体とするプレコート液11によって液封された状態で、前記支持体移動方向に対して上流側に位置するフロントエッジ2と、前記支持体移動方向に対して下流側に位置しその先端が前記フロントエッジよりも段差をつけて反支持体方向に後退していて先端部が鋭角なバックエッジ3との間のスリット6から塗布液Fを吐出して前記支持体上に塗布するエクストルージョン型の塗布装置10である。そして、ヘッド先端部の少なくとも前記バックエッジの先端部3aがイオン交換水との接触角が35°以上となるように構成された塗布装置。
請求項（抜粋）：
支持体の塗布面に予め塗布された有機溶剤を主体とするプレコート液によって液封された状態で、前記支持体移動方向に対して上流側に位置するフロントエッジと、前記支持体移動方向に対して下流側に位置しその先端が前記フロントエッジよりも段差をつけて反支持体方向に後退していて先端部が鋭角なバックエッジとの間のスリットから塗布液を吐出して前記支持体上に塗布するエクストルージョン型の塗布装置において、前記塗布装置のヘッド先端部の少なくとも前記バックエッジの先端部がイオン交換水との接触角が35°以上となるように構成されたことを特徴とする塗布装置。
引用特許：
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