特許

J-GLOBAL ID：200903027106886580

ガス溶解水製造装置

発明者： 山下 幸福 ,  山中 弘次
出願人/特許権者： オルガノ株式会社
代理人 (1件)： 細井 勇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-265673
公開番号（公開出願番号）：特開2000-070661
出願日： 1998年09月03日
公開日（公表日）： 2000年03月07日
要約：

【要約】【課題】 ガス配管内を流れる乾燥ガスをガス溶解装置に導いて、ガス溶解水を製造する装置において、ガス溶解装置内において超純水にガスを溶解するときに水分がガス中に拡散してガス配管内を流れる乾燥ガスに水分が混入されるという問題点を解決する。【解決手段】 ガス配管(母管2)に枝管10を分岐して設け、該枝管10にガス溶解装置12を連結すると共に、ガス配管とガス溶解装置12との間におけるガス供給ラインに水分除去装置11を設け、且つこの水分除去装置11の前段及び後段におけるガス供給ラインにバルブ16、17を設け、バルブ16、17の開閉を自動制御してガス供給ラインにおけるガス流路を開閉するようにする。

請求項（抜粋）：

乾燥ガスを供給するガス配管に分岐状のガス供給ラインを設け、該ガス供給ラインにガス溶解装置を連結すると共に、上記ガス配管とガス溶解装置との間に水分除去装置を設け且つガス供給ラインにおけるガス流路を開閉するためのバルブを設けてなることを特徴とするガス溶解水製造装置。

IPC (2件)：

B01D 53/26 101 ,  B01F 1/00

FI (2件)：

B01D 53/26 101 C ,  B01F 1/00 A

Fターム (22件)：

4D052AA02 ,  4D052CD01 ,  4D052CE00 ,  4D052DA05 ,  4D052DA06 ,  4D052EA01 ,  4D052FA01 ,  4D052GA01 ,  4D052GA03 ,  4D052GB02 ,  4D052GB03 ,  4D052GB04 ,  4D052GB08 ,  4D052GB14 ,  4D052HA01 ,  4D052HA03 ,  4D052HA36 ,  4G035AA01 ,  4G035AE02 ,  4G035AE13 ,  4G035AE15 ,  4G035AE19