特許

J-GLOBAL ID：200903027108478544

基板処理装置

発明者： 前川 直嗣 ,  長谷川 公二
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-300872
公開番号（公開出願番号）：特開2000-129471
出願日： 1998年10月22日
公開日（公表日）： 2000年05月09日
要約：

【要約】【課題】 基板表面の全面にわたり良好に処理を施すことができる浸漬型基板処理装置を提供する。【解決手段】 リフタ10は、処理槽5上方の外部にて未処理の複数の基板Wを受け取り降下して槽内ホルダ14に基板Wを受渡し、それによって、基板Wと接触保持している部分がリフタ10の基板保持部である縦溝13Gから槽内ホルダ14へと交代する。槽内ホルダ14で基板Wを保持している間に処理液6による主処理過程が進行するが、その間はリフタ10の基板保持部は基板Wの下方に待避している。基板Wの周縁部のうち、リフタ10の基板保持部によって保持される部分と、槽内ホルダ14で保持される部分W14とは別の部分である。このため、一連の過程の全体にわたって新鮮な処理液との接触が妨害されているような基板部分がなくなり、基板表面の全面にわたり良好に処理を施すことができる。

請求項（抜粋）：

処理液に基板を浸漬させることにより前記基板の表面処理を行うにあたって、前記基板を保持して前記処理液の内部と外部との間で昇降移動する手段の基板保持部が、前記処理液への前記基板の投入から引上げまでの期間にわたって前記基板とともに前記処理液中に浸漬された状態にある基板処理装置であって、(a)前記処理液を貯留する処理槽と、(b)前記処理槽内に配置され、前記処理液中の所定位置に前記基板を保持する槽内保持手段と、(c)前記基板のうち前記槽内保持手段により保持される部分とは異なる部分を保持する基板保持部を有し、前記処理槽外で前記基板の受渡しを行うとともに、前記所定位置において前記槽内保持手段との間の前記基板の受渡しを行い、かつ前記所定位置で前記基板の処理が行われている間は前記処理液中において前記基板保持部が前記基板から離れて待避する移動保持機構と、を備えることを特徴とする基板処理装置。

IPC (4件)：

C23F 1/08 ,  B08B 3/10 ,  H01L 21/304 642 ,  H01L 21/306

FI (4件)：

C23F 1/08 ,  B08B 3/10 Z ,  H01L 21/304 642 A ,  H01L 21/306 J

Fターム (21件)：

3B201AA03 ,  3B201AB24 ,  3B201AB44 ,  3B201BB04 ,  3B201BB85 ,  3B201BB93 ,  3B201BB96 ,  3B201CB15 ,  3B201CC13 ,  4K057WA11 ,  4K057WB06 ,  4K057WE07 ,  4K057WM02 ,  4K057WM03 ,  4K057WM11 ,  4K057WM18 ,  4K057WN01 ,  5F043AA01 ,  5F043EE02 ,  5F043EE35 ,  5F043EE36