特許
J-GLOBAL ID：200903027111559687
プロピレン系低重合体の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
渡辺 喜平 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-265191
公開番号（公開出願番号）：特開平5-025215
出願日： 1991年09月17日
公開日（公表日）： 1993年02月02日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】 アルミノキサン等の助触媒を使用せず、少量の有機アルミニウム化合物を使用して、プロピレン系低重合体を製造し、従って脱灰工程を簡略化して製造プロセス全体を簡略化し、コスト低減を図る。【構成】 下記化合物(A)及び(B)又は下記化合物(A)、(B)及び(C)を触媒としてプロピレンの単独重合又はプロピレンとプロピレン以外のオレフィンとの共重合を行なう。(A)下記一般式(I)で表わされる遷移金属化合物(R5C5)mMX4-m ・・・(I)[式中R5C5は炭化水素基置換シクロペンタジエニル基、Mはジルコニウム原子又はハフニウム原子、Xは水素原子,ハロゲン原子又は炭化水素基を示す。mは1〜4の整数を示す。5個のRは同一でも異なっていてもよい。m個のR5C5は同一でも異なっていてもよい。4-m個のXは同一でも異なっていてもよい。](B)遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成する化合物(C)有機アルミニウム化合物
請求項（抜粋）：
下記化合物(A)及び(B)を触媒としてプロピレンの単独重合又はプロピレンとプロピレン以外のオレフィンとの共重合を行なうことを特徴とするプロピレン系低重合体の製造方法。(A)下記一般式(I)で表わされる遷移金属化合物(R5C5)mMX4-m ・・・(I)[式中R5C5は炭化水素基置換シクロペンタジエニル基、Mはジルコニウム原子又はハフニウム原子、Xは水素原子,ハロゲン原子又は炭化水素基を示す。mは1〜4の整数を示す。5個のRは同一でも異なっていてもよい。m個のR5C5は同一でも異なっていてもよい。4-m個のXは同一でも異なっていてもよい。](B)遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成する化合物
IPC (2件)：
C08F 10/06
, C08F 4/642 MFG
