特許
J-GLOBAL ID：200903027112578138
高磁場効果溶液、反応開始剤、光重合性樹脂、ラジカル生成量の制御方法、および反応速度の制御方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
森 哲也 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-030850
公開番号（公開出願番号）：特開平9-227610
出願日： 1996年02月19日
公開日（公表日）： 1997年09月02日
要約：
【要約】【課題】重合反応自体を変化させないで重合速度を制御することのできる光重合開始剤を提供する。【解決手段】トリフェニルホスフィンまたはその誘導体を光重合開始剤として使用する。トリフェニルホスフィンおよびその誘導体は、均一溶液系で著しく高い磁場効果を有する。そのため、これらを光重合開始剤として使用すると、反応系にかける磁場の大きさを変えることによって重合速度を容易に制御することができる。
請求項（抜粋）：
光開裂によってリン中心ラジカルが生じる3価のリン化合物を含む均一溶液からなる高磁場効果溶液。
IPC (4件)：
C08F 4/00 MEF
, C07F 9/50
, C07F 17/02
, C08F 2/48 MDH
C08F 4/00 MEF
, C07F 9/50
, C07F 17/02
, C08F 2/48 MDH
