特許

J-GLOBAL ID：200903027120582993

核剤組成物及びポリオレフィン系樹脂組成物

発明者： 小林 稔明 ,  酒井 鎮美
出願人/特許権者： 新日本理化株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-106050
公開番号（公開出願番号）：特開平7-286066
出願日： 1994年04月20日
公開日（公表日）： 1995年10月31日
要約：

【要約】【目的】 より少ない配合量で優れた透明化効果を有し、且つ250°C以下の低融点で、臭気の発生及びフィッシュアイが発生しない新規有用な核剤組成物並びに当該核剤組成物を配合してなるポリオレフィン系樹脂組成物を提供する。【構成】 本発明に係る核剤組成物は、下記のA成分及びB成分、更に要すればC成分を含有する。A成分1,3-O-3,4-ジメチルベンジリデン-2,4-O-p-アルキル(クロロ又はメチルオキシメチル)ベンジリデンソルビトール又は1,3-O-3,4-ジメチルベンジリデン-2,4-O-5,6,7,8-テトラヒドロ-2-ナフチルソルビトールB成分1,3:2,4-ビス(O-3,4-ジメチルベンジリデン)ソルビトールC成分1,3:2,4-ビス(O-p-アルキル(クロロ又はメチルオキシメチル)ベンジリデ ン)ソルビトール又は1,3:2,4-ビス(O-5,6,7,8-テトラヒドロ-2-ナフチ ル)ソルビトール又、本発明に係るポリオレフィン系樹脂組成物は、上記核剤組成物を含有する。

請求項（抜粋）：

下記のA成分及びB成分を含有することを特徴とする核剤組成物。A成分:一般式(1)で表されるジアセタール化合物【化1】[式中、X1が3,4-ジメチルベンジリデン基を表すとき、X2は一般式(2)で表される基又は5,6,7,8-テトラヒドロ-2-ナフチル基を表す。X2が3,4-ジメチルベンジリデン基を表すとき、X1は一般式(2)で表される基又は5,6,7,8-テトラヒドロ-2-ナフチル基を表す。]【化2】[式中、R1は炭素数1〜3のアルキル基、クロル基又はメチルオキシメチル基を表す。]B成分:ビス(O-3,4-ジメチルベンジリデン)ソルビトール

IPC (3件)：

C08K 5/06 KAP ,  C08K 5/15 KET ,  C08L 23/02 KEM